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華盛頓智庫CSET數據顯示,中國在半導體光刻技術方面落後

2025/7/15 07:45

【財訊快報/劉敏夫】外電報導指出,有研究分析顯示,中國在推動半導體光刻技術方面遭逢重大挑戰,是其在與美國貿易戰中實現技術自主和優勢的一大障礙。

根據總部位於華盛頓的獨立智庫安全與新興技術中心(CSET)的數據,作為中國在該領域的領先供應商,上海微電子裝備(集團)在較老一代光刻技術市場中僅占據4%的占有率。

美國多家政府機構常常向CSET尋求諮詢意見。

CSET的研究人員發現,儘管中國企業已在晶片製造設備領域取得顯著進展,甚至在某一細分領域與日本水準相當。但是上海微電子仍遠落後於先進光刻技術領軍企業艾司摩爾控股(ASML Holdings NV)及其規模相對較小的日本同行Nikon Corp。

研究人員Jacob Feldgoise和Hanna Dohmen在週一發布的報告中寫道,這表明光刻技術仍是關鍵瓶頸。

艾司摩爾控股因美國主導的持續多年的出口管制措施,一直未能向中國提供最先進的極紫外光刻系統。中國科技巨頭華為技術於2023年震驚美國政界,首次展示了由中國製造的7奈米晶片,該晶片得到了中芯國際的生產支持,但其進展很快因缺乏先進光刻系統而停滯。

CSET研究人員分析了各公司向加拿大晶片諮詢公司TechInsights提供的營收訊息。該數據集不包括企業可能在為內部使用而開發的工具,因此華為等企業內部研發的高端設備可能未被納入統計範圍。

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