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艾司摩爾EUV光源功率突破，晶片產量2030年有望提升高達50%

2026/2/24　07:26

【財訊快報／劉敏夫】外電報導指出，半導體製程設備製造大廠艾司摩爾控股(ASML Holding)的研究人員表示，他們已發現一種提升關鍵晶片製造設備光源功率的方法，這一突破有機會使晶片產量到2030年提升高達50%。

艾司摩爾負責極紫外(EUV)光源的首席技術專家Michael Purvis在接受採訪時表示，這不是把戲，也不是那種只能短暫展示可行性的噱頭，這是一套在客戶現場相同要求下可輸出1,000瓦功率的系統。

報導指稱，借助週一披露的這一技術進展，艾司摩爾致力於透過改進設備中技術難度最高的環節，與潛在競爭對手進一步拉開差距。

艾司摩爾的研究人員已找到將EUV光源功率從目前的600瓦提升至1,000瓦的方法。

艾司摩爾負責NXE系列EUV設備的執行副總裁Teun Van Gogh表示，到約2030年，客戶使用每台設備每小時可處理約330片矽晶圓，高於目前的220片。

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艾司摩爾EUV光源功率突破，晶片產量2030年有望提升高達50%