新加坡2025年9月24日 /美通社/ -- 前沿半導體光學公司MetaOptics Ltd（新加坡交易所凱利板上市代碼：9MT）已在位於台灣桃園的品頡奈米光學股份有限公司(Pin-Jye Nano Technologies Co., Ltd.)部署其直寫式激光光刻系統。此次安裝使超透鏡的原型機設計與製造更貼近該地區的半導體供應鏈，標誌著MetaOptics全球擴張邁出了重要一步。
通過構建本地開發能力，MetaOptics將會助力合作夥伴更快地進行產品迭代，並更高效地將概念轉化為產品。桃園基地還將成為擴大生產與開展合作的跳板。MetaOptics計劃增設直寫式激光光刻設備和自動測試儀，以提升產能，滿足日益增長的超透鏡市場需求。作為這些努力的一部分，MetaOptics正在針對共封裝光學(CPO)開發超透鏡解決方案，並已展示出達到150納米及以下精度的納米製造能力。CPO現在是一項強大的新興技術，通過將數據傳輸介質從銅纜轉向光傳輸，有望為人工智能(AI)基礎設施帶來革命性變革。MetaOptics的超透鏡陣列使光學接收器和收發器比傳統微光學器件更小巧，從而構建出更緊湊、可擴展性更強的系統。
MetaOptics Ltd執行主席兼首席執行官程章金(Mark Thng)表示:「台灣地處全球半導體產業的核心地帶。此次部署讓我們更貼近我們的合作夥伴，使我們能夠以更快的交付週期、更優的集成方案以及可擴展的發展路徑，為他們提供支持。」
除了擴大在台灣的超透鏡產能外，MetaOptics還在探索進軍美國市場，以便更好地服務核心客戶。為了支撐這一發展佈局，MetaOptics已提前鎖定長交期關鍵零部件，以確保能夠更快地複製其直寫式激光光刻設備。MetaOptics的直寫式激光光刻設備可以實現最小90納米的線寬精度，其工藝水準遠超同類競爭系統。
展望未來，MetaOptics將與主要半導體原始設備製造商(OEM)合作，打算進一步升級其直寫式激光光刻技術，以實現12英吋晶圓尺寸的加工，並支持多透鏡同步寫入功能。這種無掩模工藝與多透鏡寫入技術相結合，預計將顯著提升產能，並為規模化生產開創全新機遇。
這些努力是MetaOptics願景的重要組成部分，旨在通過簡化超透鏡的設計、測試及現實世界商業化流程，推動該技術更廣泛地普及應用。隨著直寫式激光光刻設備的交付，MetaOptics預計2025財年的營收將顯著高於2024財年。
