【財訊快報／記者張家瑋報導】半導體暨光電關鍵材料廠崇越( 5434 )宣布捐贈三座半導體模型予國立清華大學半導體研究學院，協助教學展示與研究推廣，攜手學界深化產學鏈結。董事長潘重良表示，未來崇越預計每年投入300萬元贊助清華半導體學院，期待未來與清華半導體學院於材料開發、製程技術研發能有更深入的合作，進一步強化台灣的半導體自主創新能力。

他指出，半導體材料雖然微小，但往往是推進一個製程世代、甚至改寫技術路線的關鍵。為強化台灣半導體人才培育與前瞻研究能量，崇越捐贈之三座半導體模型，將提供清華半導體學院於教學展示與對外推廣。

三座模型呈現晶圓廠實際設計的立體架構，以及各項廠務運作系統模型，包括：無塵室、機電空調、超純水、氣體供應、化學品供應、廢水與廢氣處理系統等；並透過擬真模型展示無塵室內的環境，與擴散、微影、蝕刻、清洗、薄膜沉積、CMP、離子植入等主要製程設備，有助於學生更直觀理解晶圓建廠、製程流程、設備運作及材料應用。

崇越2026年矽晶圓、光阻液、研磨液及石英等接單展望樂觀。潘重良說，在AI持續推動先進製程需求之下，光阻液、石英需求強勁，2026年營運維持正向成長無虞。其中石英三廠(朴子廠)預計今年底完成驗證，2026年部分設備進場，預計明年第一季開始量產，而石英布目前洽談的客戶大致是簽定2至3年合約，需求展望樂觀，預計今年底至2026年底可望成長2.5倍的產能，2027年有機會再成長一倍。

而此次代表清華半導體研究學院共同簽署合作意向書之院長林本堅為「浸潤式微影之父」。當時浸潤式微影技術革命，其日本信越化學、崇越及客戶均參與其中，從材料端著手，精準調校純水在光阻表面的接觸角、控制光阻的表面張力、優化防水層的特性，並降低浸潤製程中可能造成的離子遷移與缺陷問題，最終成功開發出可支援浸潤式微影量產的光阻材料。