【財訊快報／記者李純君報導】光焱科技( 7728 )發佈官方聲明，針對汎銓科技( 6830 )於公開資訊觀測站及記者會上，單方面宣稱光焱科技侵害其第I870008B號「光損偵測裝置」發明專利，並求償2億元一事，表示截至目前為止，公司並未收到任何法院相關訴訟函件。光焱也強調，對於同業在尚未經完整司法程序前，即透過媒體發布資訊，阻礙產業創新之行為深感遺憾，並對此類之競爭手段予以嚴正譴責。

光焱指出，雙方在檢測技術的世代上存在顯著落差。汎銓所宣稱之專利，係採用傳統「金相顯微鏡」組成之方案進行光損量測；而光焱科技則是基於次世代、更先進的「高光譜成像技術感測模組」為核心技術，可高度整合於客戶端之系統（如探針台、電測機）上，直接進行矽光子光學檢測。其中，光損檢測僅是光焱在矽光子晶片檢測多功能模組的其中一項技術應用。光焱強調：「拿之前的金相顯微鏡專利，來告自家新世代的高光譜影像感測模組，在技術上是完全站不住腳的。」

針對汎銓於記者會上高調宣稱其專利曾挺過17項舉發而維持有效，光焱亦提出反擊。經檢視公開資料，該專利舉發案之所以不成立，主因係舉發人當時提出的是更先進的檢測技術與零組件作為證據，主管機關因此認定與汎銓採用之傳統金相顯微鏡技術「無關」。這恰好證明了該專利所保障的僅是汎銓自身技術，進而明確證實光焱採用的高光譜成像系統與汎銓的技術截然不同，自然毫無侵權之疑慮。

光焱強調，「專利」保障的是特定的技術實施手段，而非將「光損檢測」一詞註冊為商標來買斷市場，不能因為汎銓針對其自有技術申請了專利，就無限上綱認定市場上所有具備「光損檢測」功能的設備皆侵害其權益。

光焱深耕光學與光電子晶片檢測領域已長達16年，面對此次同業的不實指控與行銷操作，光焱強調公司營運、業務及設備出貨均正常進行，財務業務皆不受影響。後續將積極配合司法程序進行答辯，以捍衛公司、客戶及全體股東之合法權益。