【財訊快報／劉敏夫】外電報導指出，摩根大通方面表示，中國對極紫外(EUV)光刻機的研發努力在2030年底前不太可能對ASML產生任何影響。

外電週三披露，中國科學家已打造出一台EUV原型機，政府目標是到2028年使用該原型機生產可運行的晶片。報導指稱，中國已在將EUV光源集成進原型機光學系統方面取得突破。

摩根大通分析師Sandeep Deshpande表示，從能夠產生EUV光到製造出一台可用的EUV光刻機，這中間需要數年時間。目前沒有任何訊息表明中國的EUV原型機接近量產能力，而且中國尚未打造任何能夠實現晶片規模量產的浸沒式深紫外(DUV)光刻機。

Deshpande表示，儘管試圖跨越一代技術進行的努力隨著時間可能會成功，但是不會對ASML構成迫在眉睫的威脅。

鑒於ASML無法向中國出售EUV光刻機，即便中國的努力成功，該公司也不會因此失去業務。並且如果該設備是基於逆向工程製造的，由於智慧財產權問題，它無法在中國以外的市場銷售。