【財訊快報／記者李純君報導】半導體製造用雷射系統與EUV光刻技術供應商創浦（TRUMPF）宣布於桃園正式啟用全新區域性電漿電源技術中心。該技術中心配備先進基礎設施，專注於創浦電漿電源分析、維修與校正。

創浦全球首席技術官Dr. Berthold Schmidt表示：「整體半導體產業面臨結構日益縮小、3D拓樸（3D-Topography）愈趨複雜、新材料導入，以及高精密度與能源效率的巨大挑戰，創浦期望藉由技術優勢驅動產業的創新循環，助力發展應用於人工智慧、行動通訊與雲端運算等領域的次世代高效能晶片發展。為進一步體現創浦對台灣及亞洲區域的長期承諾，創浦擴大在台投資並以台灣作為區域樞紐，設立服務範圍涵蓋日本、南韓與東南亞的全新技術中心。」

創浦技術包含先進極紫外光（EUV）雷射系統、高功率雷射及先進電漿電源，在高效節能的微晶片製程中發揮關鍵作用，此類微晶片廣泛應用於人工智慧、智慧型手機與資料中心等領域。其中，電漿電源為實現先進製程節點（Next-Generation Nodes）的關鍵元件，透過精準控制產生電漿，進而於矽晶圓製造極細微結構，對多層晶片架構至關重要。創浦的電漿電源技術以每秒十萬次頻率快速提升、降低極高電壓，產生短暫而強大的脈衝，使半導體製造商得以運用卓越的精度與極高的深寬比製造奈米等級3D結構。

創浦是製造用雷射系統與EUV光刻技術商者，團隊亦長期於台灣晶圓廠提供安裝與服務支援。深耕台灣逾30年，全台設有5個據點。面對持續變動的產業局勢，創浦仍持續擴大在台投資營運，以完整服務半導體相關系統與解決方案客戶，公司目前每年由半導體相關業務創造約10億歐元的營收。