【財訊快報／記者張家瑋報導】隨著大客戶2奈米於下半年開始量產，外界看好新應材( 4749 )洗邊劑(EBR)、底部抗反射層(BARC)將隨之放量，2025下半年開始，業績進入高速成長期，法人預估今年半導體營收有望年增三成五，且隨著客戶2奈米產能逐漸開出，新應材2026年營收獲利將攀上高峰。

先前台積電技術論壇揭示3奈米產能將再擴增六成，今年預計新增9座廠區，包括8座晶圓廠與1座先進封裝廠。新應材目前於3奈米製程已有多項產品導入且量產，其中表面改質劑(Rinse)即受惠於3奈米製程需求，今年營收成長動能強勁，預期隨著客戶大幅擴增3奈米產能，新應材將優先受惠今、明兩年營收保持成長不墜。

另外，台積電2奈米進展順利，外傳良率達90%，台灣廠於下半年開始量產，且將加速美國廠2奈米進度，有望提前6個月完工，而新應材洗邊劑、底部抗反射層將成為下一階段成長動能，且由於先進製程EUV 光罩層數增加，進一步帶動相關耗材用量，預料洗邊劑、底部抗反射層於2026年將大舉放量。

法人指出，隨著3、2奈米產品接棒放量，新應材今、明兩年進入高速成長期，預估今年半導體營收年增35%，其半導體營收比重將一舉突破80%，2026年單季營收也將屢屢改寫新高，下一階段成長動能將關注於DUV KrF、ArF光阻送樣驗證進度。